池田屋新品ULVAC HR系列多級羅茨型干泵

池田屋新品ULVAC HR系列多級羅茨型干泵

摘要： 在CVD、刻蝕及ALD等半導體工藝中，副產(chǎn)物氣體在低溫區(qū)域易凝華結晶，導致真空泵堵塞與性能劣化。池田屋全新引入的日本ULVAC（愛發(fā)科）HR系列多級羅茨型干泵，通過泵體高溫均熱化設計，將工藝中產(chǎn)生的升華性排氣物質(zhì)以氣體狀態(tài)排出，有效抑制結晶物附著，為半導體與電子器件制造領域的苛刻工藝提供了高可靠性的真空排氣解決方案。

正文：

在CVD（化學氣相沉積）、刻蝕及ALD（原子層沉積）等半導體制造工藝中，反應副產(chǎn)物氣體在真空泵內(nèi)部的低溫區(qū)域極易發(fā)生凝華結晶（固化）。這些結晶物附著在泵內(nèi)壁及轉子表面，不僅會降低泵的排氣性能，嚴重時更會導致泵體卡死停機，是影響設備稼動率與維護成本的常見難題。為應對這一挑戰(zhàn)，池田屋引入日本ULVAC HR系列多級羅茨型干泵。

HR系列的核心優(yōu)勢在于通過高溫區(qū)域的泵體均熱化設計，使泵體內(nèi)部溫度場均勻分布并維持在一定高溫水平。這一設計可確保CVD、刻蝕等工藝中產(chǎn)生的升華性排氣物質(zhì)在通過真空泵時始終保持氣態(tài)，有效避免其在泵內(nèi)壁凝華結晶。對于溫度要求更高的工藝，ULVAC還提供可達到更高溫的UR系列。

在耐腐蝕與密封方面，HR系列對主要零部件采用表面硬度高、耐腐蝕性優(yōu)異的特殊表面處理，顯著降低腐蝕性氣體排氣時對泵內(nèi)部的化學侵蝕。泵體搭載屏蔽電動機，形成氦氣密封的密閉結構，確保高安全性。產(chǎn)品已采取1000msec以內(nèi)的瞬停對策，有效應對電力波動對泵運行的影響。

在規(guī)格方面，HR系列提供HR60、HR90、HR300、HR600、HR1200五款型號，最大排氣速度覆蓋62至1012m3/h（50Hz），到達壓力HR60/90為5Pa，HR300及以上為0.67Pa。吸氣口提供VG50至VG100（KF50至KF100）多種接口，排氣口為KF40。該系列支持數(shù)據(jù)通信功能，可通過專用軟件讀取泵運轉狀態(tài)數(shù)據(jù)及警告/報警履歷，實現(xiàn)集中監(jiān)控。

在應用場景方面，HR系列廣泛適用于CVD裝置、刻蝕裝置、灰化裝置及ALD/ALH等先進薄膜沉積工藝的真空排氣系統(tǒng)。

行業(yè)觀察人士指出，在半導體先進制程中，真空泵對凝華性副產(chǎn)物的處理能力直接關系到設備稼動率與維護周期。池田屋此次引入的ULVAC HR系列多級羅茨型干泵，以其泵體高溫均熱化、優(yōu)異耐腐蝕性及瞬停保護與通信監(jiān)控等核心優(yōu)勢，為國內(nèi)半導體與電子器件制造領域的高溫工藝提供了可靠的真空排氣保障。

綜合來看，該系列產(chǎn)品的推廣應用，有助于提升CVD、刻蝕及ALD工藝的真空系統(tǒng)可靠性，為半導體先進制程的穩(wěn)定運行提供堅實的技術支撐。